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射频离子源 RFICP 380
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KRI 考夫曼离子源 KDC 100
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考夫曼离子源离子枪简介
面议0简介：伯东公司是美国考夫曼公司 Kuafman & Robinson,Inc（KRI） 中国总代理. KRI 考夫曼公司是由离子源发明人 Dr.Kaufman 考夫曼博士于 1978年在美国创立...
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射频离子源 RFICP 220
面议0简介：上海伯东代理美国 进口 KRI 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源, 适用于离子溅镀, 离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 射频离子源 RFICP 220 配有离子光学元件,...
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射频离子源 RFICP 140
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霍尔离子源 eH 3000面议0简介：尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6”放电电压 / 电流: 50-300V / 20A操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
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